企业简介
上海思恩电子技术有限公司是专业制造与国际同步先进水平的具有CE认证的基片湿处理系统和相关零部件的企业。我们拥有美国和中国专利。公司生产的设备包括单片/多片基片湿处理系统，异丙醇取干机系统，零部件清洗系统等。我们企业文化是B E S
上海思恩电子技术有限公司的工商信息
- 91310000607338796P
- 91310000607338796P
- 存续（在营、开业、在册）
- 有限责任公司(外国自然人独资)
- 1995-11-22
- 倪党生
- 119.4万美元
- 1995-11-22 至 永久
- 上海市工商局
- 上海市虹口区中山北一路705号702室
- 设计、制造、加工IT集成电路，平板显示屏幕的各类基片及相关的湿处理清洗设备、部件，提供相关的技术咨询和售后服务，销售自产产品。【依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动】
分支机构
上海思恩电子技术有限公司的专利信息
| 序号 | 公布号 | 发明名称 | 公布日期 | 摘要 |
| 1 | CN201399347Y | 一种化学湿处理设备抽风机构 | 2010.02.10 | 本实用新型涉及一种化学湿处理设备抽风机构，包括化学液槽体以及排风夹层、与化学液槽体以及排风夹层一体的 |
| 2 | CN201401910Y | 一种聚四氟乙烯PFA化学液加热器 | 2010.02.10 | 本实用新型涉及一种聚四氟乙烯PFA化学液加热器，包括四根氟塑料螺杆、四个连接柱、加热丝以及超高温保护 |
| 3 | CN204564389U | 一种喷雾器及其基片处理系统 | 2015.08.19 | 本实用新型涉及一种喷雾器，包括：储存有待雾化的液体的储液腔体，内部设置有储液腔体加热管；通过输液组件 |
| 4 | CN202752271U | 高效声波硅材料湿处理设备 | 2013.02.27 | 本实用新型提供一种高效声波硅材料湿处理设备，包括依次设置的至少一个混酸槽、至少一个水封槽、至少一个溢 |
| 5 | CN102618933A | 硅材料的压差湿处理装置及其处理方法 | 2012.08.01 | 本发明提供一种硅材料的压差湿处理装置，包括：压差容器；在压差容器的内部，通过支架设置有用于安放硅材料 |
| 6 | CN202030865U | 硅材料的压差湿处理装置 | 2011.11.09 | 本实用新型提供一种硅材料的压差湿处理装置，包括：压差容器；在压差容器的内部，通过支架设置有用于安放硅 |
| 7 | CN102157602A | 对基片进行湿法磷扩散和制绒的方法及制绒用的酸溶液 | 2011.08.17 | 本发明涉及一种对基片进行湿法化学磷扩散制PN结和制绒的方法，主要包括(1)采用磷酸对基片进行湿处理； |
| 8 | CN201519689U | 一种化学材料自动清洗机的步进进出料装置 | 2010.07.07 | 本实用新型涉及一种硅材料自动清洗机的步进进出料装置，包括进料机构以及出料机构，所述的进料机构以及出料 |
| 9 | CN201482754U | 一种超声波功率输出控制电路 | 2010.05.26 | 本实用新型涉及一种超声波功率输出控制电路，包括555集成电路模块、定时电阻R1、定时电阻R2、定时电 |
| 10 | CN201394557Y | 一种硅材料无盲点化学清洗机构 | 2010.02.03 | 本实用新型涉及一种硅材料无盲点化学清洗机构，包括至少一对静横梁和动横梁、至少一对可交替接触硅材料的静 |
| 11 | CN201381362Y | 一种无噪声化学液冷热交换精密温度控制器 | 2010.01.13 | 本实用新型涉及一种无噪声化学液冷热交换精密温度控制器，包括冷却水热交换器、半导体制冷片、多组制冷加热 |
| 12 | CN100423206C | 用加热化学气体产生的雾状化学剂处理基片的方法及系统 | 2008.10.01 | 本发明是通过使用加热化学气体而生成的雾状化学剂来进行基片清洗的一个系统，尤其适用于半导体硅片与平板显 |
| 13 | CN1567541A | 用加热化学气体产生的雾状化学剂处理基片的方法及系统 | 2005.01.19 | 本发明是通过使用加热化学气体而生成的雾状化学剂来进行基片清洗的一个系统，尤其适用于半导体硅片与平板显 |
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